최태원 SK그룹 회장이 지난 2월 1일 경기도 이천 SK하이닉스 본사에서 열린 M16 준공식에서 인사말을 하고 있다. (SK하이닉스 제공)/뉴스1

 세계 2위 메모리 반도체 제조사인 SK하이닉스가 지난해 연구개발(R&D)에 3조3700억원 가량을 투자한 것으로 나타났다.

2019년에 이어 2년 연속으로 연구개발에 3조원 이상을 투자한 것이며 연간 매출에서 R&D 비용이 차지하는 비중도 10%를 넘겼다.

3일 SK하이닉스가 제출한 감사보고서에 따르면 지난해 연구개발비(R&D) 총액은 약 3조3703억원으로 집계됐다.

이는 1년 전인 2019년 3조1885억원과 비교해 5.7% 늘어난 것으로 SK하이닉스의 연간 R&D 비용 지출 중 역대 최고 기록에 해당된다.

SK하이닉스의 R&D 비용은 2016년에 2조987억원으로 사상 처음 2조원대를 돌파한 이후 가파른 증가세를 보였다.

특히 2017년 2조4870억원으로 전년 대비 18.5% 증가한 이후 Δ2018년 2조8950억원(16.4%) Δ2019년 3조1885억원(10.1%) 등 3년 연속으로 R&D 비용이 두자릿수 이상 늘기도 했다.

SK하이닉스가 1일 경기도 이천 본사에서 10나노급 D램 제품을 주로 생산할 M16 준공식을 개최했다. D램 제품을 주로 생산하게 될 M16은 축구장 8개에 해당하는 5만 7000㎡(1만7000여평)의 건축면적에 길이 336m, 폭 163m, 높이는 아파트 37층에 달하는 105m로 조성됐다. SK하이닉스가 국내외에 보유한 생산 시설 중 최대 규모다. 사진은 M16 전경. (SK하이닉스 제공) 2021.2.1/뉴스1

전체 매출에서 R&D가 차지하는 비중은 2016년 12.2%로 정점을 찍은 이후 2017년과 2018년에는 각각 8.3%, 7.2%로 2년 연속으로 하락했다. 그러다가 2019년은 11.8%, 지난해 10.6%로 2년 연속으로 10%대를 돌파했다.

이같은 R&D 확대에 힘입어 SK하이닉스는 지난해 3분기말 기준으로 D램 시장에서 매출액 기준 점유율 27.7%, 낸드플래시 부문에선 11.7%를 기록했다. 전 세계 메모리 기업들 중에선 매출액 기준으로만 놓고 보면 삼성전자에 이어 SK하이닉스가 글로벌 2위인 것이다.

이같은 R&D 투자를 바탕으로 올해 SK하이닉스는 D램과 낸드플래시 시장에서도 증가하는 고객 수요에 맞춰 고사양 제품으로 적기에 대응한다는 방침이다.

D램의 경우 모바일 제품에서 LPDDR5 제품을 상반기 내에 출시해 5G 시장의 본격 확대에 따른 고성능 스마트폰 수요에 기대를 거는 모습이다.

특히 업계에서는 SK하이닉스가 갈수록 증가하는 데이터센터용 SSD(솔리드 스테이트 드라이브) 수요에 발맞추기 위해 낸드 역량 강화를 위한 R&D에 더욱 초점을 맞출 것이란 분석도 나온다.

SK하이닉스는 "낸드플래시 부문에서는 현재 양산중인 5세대 128단 낸드의 수익성을 높여 시장 변화에 발맞춰 대응하고 있다"면서 "올 상반기 내에 6세대 176단 낸드 개발도 완료할 계획"이라고 밝혔다.

이석희 SK하이닉스 대표이사 사장(SK하이닉스 제공)© 뉴스1

이를 위해 지난해 SK하이닉스는 국내 기업 인수합병(M&A) 사상 최대인 10조원 이상을 투자해 미국 인텔의 낸드 사업부 인수를 발표했다.

SK하이닉스 관계자는 "D램에 대한 의존도가 높은 사업구조를 극복하고 낸드 사업 성장에 추진력을 더하기 위한 전략적인 M&A"라고 설명했다.

이미 SK하이닉스는 지난해 낸드 사업에서만 전년 대비 45.4% 늘어난 매출 7조4712억원을 기록하며 눈부신 성장을 보여줬다. D램 매출 성장률(11.1%)을 한참 웃도는 수준이다. 전체 매출에서 낸드가 차지하는 비중은 2019년 19.04%에서 2020년 23.42%까지 상승했다.

SK하이닉스는 R&D 투자와 동시에 반도체 생산량 확대의 핵심이 되는 설비투자에도 올해 적극적으로 나설 방침이다.

지난달 열린 이사회에서는 네덜란드의 반도체 장비업체 ASML과 2025년말까지 4조7549억원을 투자해 EUV(극자외선) 노광 장비를 구입하는 계약도 체결한 바 있다.

극자외선(Extreme Ultra Violet)의 줄임말인 EUV는 반도체 원재료인 실리콘 웨이퍼에 회로를 그려넣는 '노광' 공정에 활용되는 기술이다.

세계에서 유일하게 ASML만이 EUV 장비를 생산할 수 있는 가운데 반도체 업계에선 대만의 TSMC와 삼성전자, 인텔 등 유력 기업들이 앞다퉈 EUV 도입을 위한 경쟁을 펼치고 있다.

여기에 SK하이닉스는 차세대 10나노 4세대 이하 차세대 D램에 EUV 공정을 도입하기 위해 5년간의 장기 계약을 체결한 것으로 분석된다. EUV 장비 1대당 가격이 2000억원 수준인 것을 감안하면 SK하이닉스는 5년간 20대 이상의 장비를 도입하겠다는 계획을 세운 것으로 추산할 수 있다.

SK하이닉스가 1일 경기도 이천 본사에서 10나노급 D램 제품을 주로 생산할 M16 준공식을 개최했다. D램 제품을 주로 생산하게 될 M16은 축구장 8개에 해당하는 5만 7000㎡(1만7000여평)의 건축면적에 길이 336m, 폭 163m, 높이는 아파트 37층에 달하는 105m로 조성됐다. SK하이닉스가 국내외에 보유한 생산 시설 중 최대 규모다. 사진은 M16 전경. (SK하이닉스 제공) 2021.2.1/뉴스1

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